[R4] スージングUVカットメイクアップベース(下地)

-使用成分- 
精製水,シクロペンタシロキサン,酸化亜鉛,酸化チタン,BG,ジ（カプリル／カプリン酸）BG,サリチル酸ブチルオクチル,PEG－10ジメチコン,ナイアシンアミド,（ビニルジメチコン／メチコンシルセスキオキサン）クロスポリマー,ジステアルジモニウムヘクトライト,硫酸Mg,シリカ,ステアリン酸,水酸化Al,トリエトキシカプリリルシラン,ポリグリセリル－３ポリジメチルシロキシエチルジメチコン,1，2－ヘキサンジオール,カプリル酸グリセリル,カプリリルグリコール,ゼラニウム油,エチルヘキシルグリセリン,アデノシン,グアイアズレンスルホン酸Ｎａ,エクトイン,カルノシン,パルミトイルトリペプチド－1,グリセリン,トコフェロール,ベタイン,PCA－Na,カノラ油,ソルビトール,グリシン,セリン,アラニン,アスパラギン酸,リシン,グルタミン酸,アルギニン,ロイシン,トリペプチド-1銅,プロリン,チロシン,フェニルアラニン,バリン,イソロイシン,ニンジン種子油,シソ葉エキス,メリッサ葉エキス,アルテア根エキス,ルリジサエキス,ジャスミン油,トレオニン,ヒスチジン,システイン,メチオニン,カロットエキス,β-カロチン,酢酸トコフェロール,フランスカイガンショウ樹皮エキス,ヒマワリ種子油,シトロネロール,ゲラニオール,リナロール